무기물 포토레지스트, 반도체 미세 공정 구현 '키맨'
삼성전자-삼성SDI, 소재 국산화 합심…샘플도 공급
▲ 중국 국가지적재산권국(SIPO)는 지난달 삼성전자가 작년 7월 출원한 '극자외선을 이용한 레지스트 패턴 형성 방법 및 이를 마스크로 이용한 패턴 형성 방법(특허번호 CN117518728A)'이라는 제목의 특허를 승인했다. (사진=SIPO)
[하드웨어] [단독] 삼성전자 무기물 포토레지스트 성과 '첫 공개'
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